聚四氟乙烯方槽20L耐腐蝕一體成型四氟酸缸5L

聚四氟乙烯（PTFE/PFA）清洗槽是一種高性能耐腐蝕容器，專為半導(dǎo)體、光伏、光電等行業(yè)設(shè)計(jì)，采用一體成型工藝，具備耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿、耐高低溫、低溶出無(wú)污染等特性，主要用于晶圓清洗、設(shè)備零部件清洗、材料刻蝕及實(shí)驗(yàn)室器皿浸泡等場(chǎng)景。

可耐受氫氟酸、硫酸、硝酸、王水等強(qiáng)酸，氫氧化鈉等強(qiáng)堿，以及各類有機(jī)溶劑（如丙酮、NMP），長(zhǎng)期使用無(wú)溶脹或降解，避免金屬離子污染樣品。
金屬元素空白值極低（鉛、鈾含量＜0.01 ppb），符合半導(dǎo)體行業(yè)超凈環(huán)境要求。
一體成型設(shè)計(jì)：無(wú)焊接縫，杜絕漏液風(fēng)險(xiǎn)，延長(zhǎng)使用壽命。
表面光滑：內(nèi)外壁無(wú)毛刺，不掛壁，易于清洗，避免交叉污染。
方槽：適用于浸泡、清洗帶芯片硅片電池片的花籃，或存儲(chǔ)酸堿溶劑。
半導(dǎo)體制造
晶圓清洗：盛裝硫酸、氫氟酸、氨水等清洗液，去除晶圓表面污染物、顆粒和金屬雜質(zhì)。
晶圓刻蝕：盛裝氫氟酸、硝酸、磷酸等刻蝕液，對(duì)晶圓表面進(jìn)行選擇性刻蝕，形成電路圖案。
材料刻蝕：加工硅、二氧化硅等半導(dǎo)體材料時(shí)，盛裝相應(yīng)刻蝕液進(jìn)行濕法刻蝕。
拋光液盛放：為化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）工藝提供穩(wěn)定的化學(xué)環(huán)境，平坦化晶圓表面。
實(shí)驗(yàn)室分析
浸泡清洗溶樣杯、消解罐、試劑瓶、坩堝、燒杯等實(shí)驗(yàn)室器皿，避免交叉污染。