華諾mask掩模版,微孔微距掩膜版報(bào)價(jià)及圖片

500元2022-11-16 07:58:25
  • 北京華諾恒宇光能科技有限公司
  • 掩膜版
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加工周期 最快12小時(shí)出貨 掩膜板材質(zhì) 不銹鋼、鉭片、各種薄膜等可按客戶要求定制
掩膜版別名 掩膜板、光罩、mask、FMM 掩膜版加工精度 最小10um
掩膜版尺寸 最大600*600mm 掩膜版材質(zhì)厚度 最薄加工厚度0.03mm
特色要求 需要和客服具體溝通  

華諾mask掩模版,微孔微距掩膜版報(bào)價(jià)及圖片

掩膜夾具極高的精密度,可達(dá)±0.05的精度,滿足不同產(chǎn)品的組裝要求,材料越薄,精度控制相對(duì)越高。我們可以加工薄0.02厚的掩膜版金屬材料,直至3以?xún)?nèi)厚,都可以實(shí)現(xiàn)批量化的生產(chǎn)加工,而且加工的質(zhì)量穩(wěn)定,批次清楚,品控體系嚴(yán)格。


掩膜版激光加工產(chǎn)品特點(diǎn):
  1,可以按設(shè)計(jì)人員的設(shè)計(jì)要求進(jìn)行掩模板圖形的任意更改,方便快捷成本低。
  2,電極掩模板中小的縫隙可以達(dá)到0.03(30微米),小線寬可做到0.015(15微米)。
  3,位置精度高可達(dá)+/-0.003,解決一塊產(chǎn)品需多層蒸鍍,每層間的重復(fù)對(duì)位的位置精度。
  4,材料厚度可由客戶,華諾精密長(zhǎng)期庫(kù)存材料從0.03-0.10,能為客戶提供快速穩(wěn)定的服務(wù)。

光刻掩膜版(又稱(chēng)光罩,英文為Mask Reticle),簡(jiǎn)稱(chēng)掩膜版,是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu),再通過(guò)曝光過(guò)程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構(gòu)成。其圖形結(jié)構(gòu)可通過(guò)制版工藝加工獲得,常用加工設(shè)備為直寫(xiě)式光刻設(shè)備,如激光直寫(xiě)光刻機(jī)、電子束光刻機(jī)等。
掩膜版應(yīng)用十分廣泛,在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成電路)、FPD(Flat Panel Display,平板顯示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷電路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微機(jī)電系統(tǒng))等。

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