文章摘要: ?金剛石在MPCVD設備中的生長過程金剛石在MPCVD設備中的生長需要保證MPCVD設備的真空性。將設備反應腔清洗,在基片臺上放置已經(jīng)預處理好的籽晶,關閉設備反應腔艙門,進行抽真空操作,待反應腔達到一定的真空度的時候,結(jié)束抽真空操作并通入反應氣體,反應氣體
?金剛石在MPCVD設備中的生長過程
金剛石在MPCVD設備中的生長需要保證MPCVD設備的真空性。將設備反應腔清洗,在基片臺上放置已經(jīng)預處理好的籽晶,關閉設備反應腔艙門,進行抽真空操作,待反應腔達到一定的真空度的時候,結(jié)束抽真空操作并通入反應氣體,反應氣體在微波場的激勵下形成等離子體狀態(tài),反應氣體成為各種活化基團,碳元素在籽晶上沉積,生長為金剛石。

生長MPCVD金剛石所用的反應氣體主要有氫氣(H2)、甲烷(CH4),微波能量經(jīng)過波導傳輸以及天線模式轉(zhuǎn)換后進入諧振腔,在諧振腔內(nèi)形成一定強度的微波交變電場,在交變電場的激勵下,維持在低壓狀態(tài)下上述反應氣體在微波場的作用下裂解成H、O原子或CH2、CH3、C2H2、OH等基團。含碳基團(CH2、CH3、C2H2)將在籽晶表層形成一種氣固混合界面,在這個過程當中,由于氫離子體刻蝕非晶碳或石墨(sp2)相的速度比刻蝕金剛石(sp3)相要快得多,因此金剛石表層的非金剛石相被快速刻蝕,從而實現(xiàn)金剛石生長。但實際上這個微觀過程十分復雜,僅在氫氣和甲烷兩種原料氣體所激發(fā)的等離子體中就至少有20種以上的由游離碳原子和氫原子構(gòu)成的不同基團,而且相互之間不斷進行轉(zhuǎn)化。
通俗點來講:利用MPCVD設備生長金剛石,就是先找一個籽晶,放在MPCVD設備中,在設備中通入氫氣和甲烷等反應氣體,經(jīng)過微波能量的激勵,反應氣體就會形成各種活性基團,碳元素就會附著在籽晶上,進而形成金剛石。也就是,籽晶是一粒種子,反應氣體是養(yǎng)料,種子不斷的吸收養(yǎng)料,長大成為金剛石。
金剛石在MPCVD設備中的生長過程
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