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阿拉爾進口水法硬脂酸鋇
在有機溶劑中加熱溶解后冷卻時成膠狀物，在空氣中有吸水性。無硫化物污染性。遇強酸分解為硬脂酸和相應的鋇鹽。硬脂酸鈉的制備將硬脂酸加入反應釜，攪拌下用20倍(質(zhì)量)的熱水溶解，在80℃左右加入含量為1074kg/m3(10°Bé)的燒堿，生成稀的硬脂酸鈉溶液。將48g氫氧化鋇[Ba(OH)2150002024-06-02 -
唐山國產(chǎn)陶氏丙二醇添加比例
外觀:無色粘稠穩(wěn)定的吸水性液體，幾乎無味無臭。 相對密度(水=1):1.04 蒸汽壓:20℃時106Pa 閃點:99℃(閉杯)，107℃(開杯)密度 (20/25 °C) 1.0350~1.4010 1.0350~1.4010 1.0350~1.4010 折射率(25°C) 1.4307~1.4317 1.431~1.435 1.426~1.435 餾程, IBP 184.0 °C min 184.0 °C min120002024-05-29 -
漢沽原裝sk丙二醇使用方法
英文別名:(+/-)-1-Glycerol, polymer-supported; ethane-1,2-diol - prop-1-ene (1:1) 分子式:CH2OHCHOHCH3(C3H8O2) EINECS:200-338-0 CAS號:57-55-6比熱容(20 ℃)2.49kJ/(kg.℃)， 汽化熱(101.3kpa)711kJ/kg。 自燃溫度:421.1℃ 溶解度:與水、乙醇及多種有機溶劑混溶。 爆炸極120002024-05-26 -
曲靖印尼產(chǎn)春金甘油
春金甘油別名：丙三醇Glycerin： 理化特性： 1、外觀與性狀：無色無臭而有甜味的粘稠液體，吸水性很強； 2、熔點(℃)：18.17； 3、沸點(℃)：290(101.3KPa)； 4、密度：1.261(20℃)。品名：甘油 別名：丙三醇 分子式：C3H8O3 相對密度（水=1）：1.26331（20℃） 熔點（℃）：2060002023-07-30 -
本溪生產(chǎn)純堿價格
儲存于陰涼、通風的庫房。遠離火種、熱源。應與酸類等分開存放，切忌混儲。儲區(qū)應備有合適的材料收容泄漏物。起運時包裝要完整，裝載應穩(wěn)妥。運輸過程中要確保容器不泄漏、不倒塌、不墜落、不損壞。嚴禁與酸類、食用化學品等混裝混運。運輸途中應防曝曬、雨淋，防高溫。車輛面議2023-02-15 -
雙環(huán)碳酸鈉品牌
它是一種重要的無機化工原料，主要用于平板玻璃、玻璃制品和陶瓷釉的生產(chǎn)。還廣泛用于生活洗滌、酸類中和以及食品加工等。中文名 純堿 外文名 Sodium carbonate 中文名 碳酸鈉 外文名 Sodium Carbonate 俗名 蘇打、純堿、洗滌堿熔點 851℃ 分解溫度 1744℃ 分子量 105.9925002022-04-08
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氧化鋯2000目 高頻陶瓷二氧化鋯325目
耐火材料：用于生產(chǎn)鋯磚、鋯管、坩堝等，適用于冶金、玻璃、陶瓷等高溫工業(yè) 陶瓷工業(yè)：作為陶瓷原料，提升陶瓷的耐高溫性、耐磨性和化學穩(wěn)定性；用于壓電陶瓷、日用陶瓷等 電子元器件：用于制造高頻陶瓷、電容器、傳感器等，利用其高電阻率和低熱膨脹系數(shù)特性 金屬冶煉：曲靖面議2026-03-10 -
二氧化鋯325目 60-80目應用高溫耐火坩堝
二氧化鋯，白色粉末，高熔點（2410℃），化學惰性強，常溫下穩(wěn)定；釔離子（Y3?）可用于晶格摻雜。是 YSZ 最核心的穩(wěn)定劑原料，也單獨用于熒光粉（Y?O?:Eu3?紅光）、激光晶體（YAG 基質(zhì)）、高溫耐火坩堝。 核心性能 力學：高硬度（接近剛玉）、高斷裂韌性（相變增韌）、抗彎曲靖面議2026-03-10 -
高溫涂層與陶瓷材料三氟化釔
? 金屬釔制備的核心原料：熔融鹽電解 YF?（常搭配 LiF 等助熔劑）是工業(yè)生產(chǎn)金屬釔的主要工藝；金屬釔用于稀土鎂 / 鋁 / 鋯合金改性，提升高溫強度、耐腐蝕性與焊接性能，應用于航空發(fā)動機、高溫爐具部件。 ? 光學與激光材料：中紅外高透光 + 低折射率，作為紅外窗口、激曲靖面議2026-03-04 -
三氟化釔粉末13709-49-4
三氟化釔無水粉末13709-49-4 分子式:YF3 用途:紅外薄膜,光釬摻雜,紅外波段的優(yōu)良材料。氟化釔在半導體里穩(wěn)定發(fā)揮，提升器件性能。 高溫部件涂層： 高純度的氟化釔粉末熔點高（約 1377），可作為高溫防護涂層材料，用于航天器發(fā)動機噴嘴、燃燒室壁面等高溫部件，增強其曲靖面議2026-03-04 -
鈰銨 16774-21-3現(xiàn)貨報價
在酸性條件下，Ce??將金屬 Cr 氧化為可溶性 Cr3?，自身被還原為 Ce3?： 二元掩模（Binary Mask）：芯片、面板、MEMS 的標準鉻掩模圖形化 相位偏移掩模（PSM）：半色調(diào) / 衰減型 PSM 的鉻層蝕刻 掩模返工：不合格鉻層整體去除、基板回收 reuse 科研 / 小批量：實驗室鉻掩曲靖面議2026-03-04 -
光掩模鉻層蝕刻16774-21-3 鈰銨專供
鈰銨是鉻掩模標準蝕刻液核心成分： 選擇性好，不傷及光刻膠、玻璃 線寬精度高，用于芯片、面板掩膜版 晶圓清洗與表面處理 強氧化性，去除有機物、金屬雜質(zhì)，提高后續(xù)成膜 / 鍵合良率。 2. 顯示面板（LCD / OLED / TFT） ITO 透明導電膜蝕刻液 用于蝕刻 ITO、IZO 等透曲靖面議2026-03-04 -
氟化鈰 光學鍍膜材料
三氟化鈰CeF3是一種無機化合物，又稱氟化鈰(III)，CAS號為7758-88-5，屬于稀土氟化物。其晶體屬六方晶系，具有寬透過波段和低聲子能量特性，可用于激光基質(zhì)材料和磁光隔離器。氟化鈰廠家、氟化鈰批發(fā)、氟化鈰氟化物 關于氟化鈰的主要介紹 英文名稱:Cerium fluoride 分子式:曲靖面議2026-03-04 -
電子級 CAN 用來制備納米 CeO? 磨料
can鈰銨在電子材料里主要干兩件事： 高純 Ce?? 前驅(qū)體：做氧化鈰基薄膜、拋光液、功能材料 選擇性氧化劑 / 蝕刻劑：用于光掩模、金屬線路、透明導電膜蝕刻 1. 半導體 & 集成電路 CMP 拋光液（化學機械拋光） 電子級 CAN 用來制備納米 CeO? 磨料，用于： 硅晶圓平坦化曲靖面議2026-03-04 -
鈰銨用于抗反射膜（AR 膜）
鈰銨（CAN）是制備氧化鈰（CeO?）抗反射膜（AR 膜）的核心高純鈰源，憑借高水溶性、易提純、成膜均勻等優(yōu)勢，廣泛用于太陽能電池、光學器件、顯示面板等領域，核心是通過光干涉效應實現(xiàn)減反射與增透。水溶性極佳：易溶于水 / 醇，適配溶膠 - 凝膠、旋涂、浸涂等濕法工藝，分曲靖面議2026-03-04 -
鈰銨氧化劑can 透明導電膜蝕刻
鈰銨在電子材料里主要干兩件事： 高純 Ce?? 前驅(qū)體：做氧化鈰基薄膜、拋光液、功能材料 選擇性氧化劑 / 蝕刻劑：用于光掩模、金屬線路、透明導電膜蝕刻 1. 半導體 & 集成電路 CMP 拋光液（化學機械拋光） 電子級 CAN 用來制備納米 CeO? 磨料，用于： 硅晶圓平坦化 Si曲靖面議2026-03-04 -
高純度 CAN 溶液 鈰銨鉻掩模蝕刻
化學機械拋光（CMP） 納米 CeO?磨料前驅(qū)體：高純度 CAN（≥5N）經(jīng)熱解 / 水熱法制備單分散 CeO?納米磨料，用于晶圓、SiC/GaN 襯底、銅互連的全局平坦化。 性能優(yōu)勢：莫氏硬度 6.5，實現(xiàn)原子級平整度（Ra≤0.1nm）；SiC 去除速率達 1500–2000 ?/min（較 SiO?提升 3 倍），缺曲靖面議2026-03-04 -
高端耐火材料氧化釔（三氧化二釔）
氧化釔本身熔點極高（約 2410℃），且化學性質(zhì)非常穩(wěn)定，是制造超高溫耐火材料的關鍵原料。 坩堝與容器： 用于熔煉高純度活性金屬（如鈦、鋯、鈾、钚）及其合金。 優(yōu)勢：Y?O? 不與這些活性金屬發(fā)生反應（潤濕性差），也不會向熔體中引入雜質(zhì)（如碳、硅），保證了金屬的高曲靖面議2026-03-04 -
氧化鋯纖維 高頻陶瓷、研磨材料
合成原料 用于制金屬鋯和鋯化合物、制耐火磚和坩鍋、高頻陶瓷、研磨材料、陶瓷顏料和鋯酸鹽等主要用于壓電陶瓷制品、日用陶瓷、耐火材料及貴重金屬熔煉用的鋯磚、鋯管、坩堝等。也用于生產(chǎn)鋼及有色金屬、光學玻璃和二氧化鋯纖維。還用于陶瓷顏料、靜電涂料及烤漆。用于環(huán)氧曲靖面議2026-03-04 -
氧化鋯有高熔點、高硬度、化學穩(wěn)定性好、離子導電性突出?的特點
二氧化鋯具有高熔點、高硬度、化學穩(wěn)定性好、離子導電性突出?的特點。 陶瓷刀具、剪刀、剃須刀?：高強度、無金屬離子釋放、食品級安全 ? ?軸承、閥門、泵零件?：耐高溫、自潤滑、抗腐蝕，適用于極端環(huán)境（如航空、化工）? ?拉絲模、噴嘴、磨球?：高密度與高硬度，顯曲靖面議2026-03-04
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