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阿克蘇乙二胺四乙酸四鈉,福建環(huán)保阿克蘇EDTA四鈉標(biāo)準(zhǔn)
EDTA四鈉又名乙二胺四乙酸四鈉鹽。為白色粉末。易溶于水。 用作硬水軟化劑、多價螯合劑、彩色感光材料中沖洗加工漂白的定影液、丁苯橡膠的活化劑。外觀與性狀:白色晶體粉末。 pH值:10.5-11 熔點(diǎn)(℃):248℃ 引燃溫度(℃):450℃ 溶解性:溶于水,微溶于醇。廣州市享165002024-09-19 -
腐鈉|腐植酸鈉40%的腐植酸鈉粉末量大優(yōu)惠
腐植酸鈉 腐植酸鈉(別名:胡敏酸鈉、腐鈉)是一類天然的組成結(jié)構(gòu)復(fù)雜的脂肪——芳香族羧酸的多功能高分子有機(jī)化合物,含有羥基、醌基、羧基等多種活性基團(tuán),具有很大的內(nèi)表面積,有較強(qiáng)的離子交換、吸附、絡(luò)合、螯合、絮凝、分散、粘結(jié)能力,廣泛應(yīng)用于農(nóng)、林、牧、石油8602024-06-19 -
晉城進(jìn)口陽光棕櫚油添加比例
棕櫚油由油棕樹上的棕櫚果壓榨而成,果肉和果仁分別產(chǎn)出棕櫚油和棕櫚仁油,傳統(tǒng)概念上所言的棕櫚油只包含前者。棕櫚油經(jīng)過精煉分提,可以得到不同熔點(diǎn)的產(chǎn)品,分別在餐飲業(yè)、食品工業(yè)和油脂化工業(yè)擁有廣泛的用途。油棕是世界上生產(chǎn)效率最高的產(chǎn)油植物。在馬來西亞,目前每公95002024-06-09 -
龍巖癸酸
性質(zhì):白色結(jié)晶體。具有難聞的氣味。熔點(diǎn)31.5℃,沸點(diǎn)270℃,148-150℃(1.46kPa),相對密度0.8858(20/4℃)用途:主要用于制取癸酸酯類產(chǎn)品,其酯類用作香料、濕潤劑、增塑劑和食品添加劑等。 存放方法 應(yīng)密封于陰涼干燥處保存。公司位于中國江蘇省丹陽市云陽鎮(zhèn),是一家自營進(jìn)口化500002024-04-04 -
珠海進(jìn)口椰樹甘油
2、在涂料工業(yè)中用以制取各種醇酸樹脂、聚酷樹脂、縮水甘油醚和環(huán)氫樹脂等。 3、紡織和印染工業(yè)中用以制取潤滑劑、吸濕劑,織物防皺縮處理劑,擴(kuò)散劑和滲透劑。4、在食品工業(yè)中用作甜味劑、吸濕劑和溶劑。 5、在造紙、化妝品、制革、照相、印刷、金屬加工、電工材料和橡膠等70002023-07-13 -
肇慶四氯乙烯批發(fā)
深圳市寶安區(qū)松崗浩天清洗劑經(jīng)營部經(jīng)銷的供應(yīng)調(diào)配各類工業(yè)清洗劑、原裝四氯乙烯、返蒸四氯乙烯批發(fā)、返蒸天那水批發(fā)及零售、還有其他同類產(chǎn)品,以獲得基本上每個客戶的要求。本企業(yè)很多年來秉持互利雙贏的低準(zhǔn)則與客戶開設(shè)合作貿(mào)易往來。且加上便利的交通運(yùn)輸網(wǎng)絡(luò),先進(jìn)的生面議2022-06-16 -
揭陽生產(chǎn)雙環(huán)碳酸鈉廠家,蘇打
中文名 純堿 外文名 Sodium carbonate 中文名 碳酸鈉 外文名 Sodium Carbonate 俗名 蘇打、純堿、洗滌堿“十一五”期間,純堿生產(chǎn)能力高速發(fā)展,隨著新增產(chǎn)能的釋放和競爭的加劇,市場價格周期性波動加大,純堿行業(yè)經(jīng)濟(jì)效益大幅下滑,2010年國內(nèi)經(jīng)濟(jì)企穩(wěn)回升,市場需求增加25002022-03-22 -
茂名石化乙烯基苯,廣西有中海南聯(lián)供應(yīng)苯乙烯廠家
工業(yè)用苯乙烯 一、產(chǎn)品簡介 中海南聯(lián)工業(yè)用苯乙烯是通過對乙苯進(jìn)行除氫作用而生成的(乙苯是汽油中提取的乙烯和苯的化合物),本產(chǎn)品為透明、無色、易燃。 二、適用范圍 ●它最重要的用途是作為合成橡膠和塑料的單體,用來生產(chǎn)丁苯橡膠、聚苯乙烯、泡沫聚苯乙烯。 ●適用于與18132022-02-19 -
茂名石化乙烯基苯,陜西有中海南聯(lián)供應(yīng)液體化工原料_苯乙烯廠家
產(chǎn)品質(zhì)量報告單 概述(Summary) 檢驗信息(Test information) 批次信息(Batch information) 樣品名稱 苯乙烯 檢驗信息 批次編號 檢驗單號 檢驗時間 采樣18132022-01-28
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氧化鋯2000目 高頻陶瓷二氧化鋯325目
耐火材料:用于生產(chǎn)鋯磚、鋯管、坩堝等,適用于冶金、玻璃、陶瓷等高溫工業(yè) 陶瓷工業(yè):作為陶瓷原料,提升陶瓷的耐高溫性、耐磨性和化學(xué)穩(wěn)定性;用于壓電陶瓷、日用陶瓷等 電子元器件:用于制造高頻陶瓷、電容器、傳感器等,利用其高電阻率和低熱膨脹系數(shù)特性 金屬冶煉:伊犁面議2026-03-10 -
二氧化鋯325目 60-80目應(yīng)用高溫耐火坩堝
二氧化鋯,白色粉末,高熔點(diǎn)(2410℃),化學(xué)惰性強(qiáng),常溫下穩(wěn)定;釔離子(Y3?)可用于晶格摻雜。是 YSZ 最核心的穩(wěn)定劑原料,也單獨(dú)用于熒光粉(Y?O?:Eu3?紅光)、激光晶體(YAG 基質(zhì))、高溫耐火坩堝。 核心性能 力學(xué):高硬度(接近剛玉)、高斷裂韌性(相變增韌)、抗彎伊犁面議2026-03-10 -
高溫涂層與陶瓷材料三氟化釔
? 金屬釔制備的核心原料:熔融鹽電解 YF?(常搭配 LiF 等助熔劑)是工業(yè)生產(chǎn)金屬釔的主要工藝;金屬釔用于稀土鎂 / 鋁 / 鋯合金改性,提升高溫強(qiáng)度、耐腐蝕性與焊接性能,應(yīng)用于航空發(fā)動機(jī)、高溫爐具部件。 ? 光學(xué)與激光材料:中紅外高透光 + 低折射率,作為紅外窗口、激伊犁面議2026-03-04 -
三氟化釔粉末13709-49-4
三氟化釔無水粉末13709-49-4 分子式:YF3 用途:紅外薄膜,光釬摻雜,紅外波段的優(yōu)良材料。氟化釔在半導(dǎo)體里穩(wěn)定發(fā)揮,提升器件性能。 高溫部件涂層: 高純度的氟化釔粉末熔點(diǎn)高(約 1377),可作為高溫防護(hù)涂層材料,用于航天器發(fā)動機(jī)噴嘴、燃燒室壁面等高溫部件,增強(qiáng)其伊犁面議2026-03-04 -
鈰銨 16774-21-3現(xiàn)貨報價
在酸性條件下,Ce??將金屬 Cr 氧化為可溶性 Cr3?,自身被還原為 Ce3?: 二元掩模(Binary Mask):芯片、面板、MEMS 的標(biāo)準(zhǔn)鉻掩模圖形化 相位偏移掩模(PSM):半色調(diào) / 衰減型 PSM 的鉻層蝕刻 掩模返工:不合格鉻層整體去除、基板回收 reuse 科研 / 小批量:實驗室鉻掩伊犁面議2026-03-04 -
光掩模鉻層蝕刻16774-21-3 鈰銨專供
鈰銨是鉻掩模標(biāo)準(zhǔn)蝕刻液核心成分: 選擇性好,不傷及光刻膠、玻璃 線寬精度高,用于芯片、面板掩膜版 晶圓清洗與表面處理 強(qiáng)氧化性,去除有機(jī)物、金屬雜質(zhì),提高后續(xù)成膜 / 鍵合良率。 2. 顯示面板(LCD / OLED / TFT) ITO 透明導(dǎo)電膜蝕刻液 用于蝕刻 ITO、IZO 等透伊犁面議2026-03-04 -
氟化鈰 光學(xué)鍍膜材料
三氟化鈰CeF3是一種無機(jī)化合物,又稱氟化鈰(III),CAS號為7758-88-5,屬于稀土氟化物。其晶體屬六方晶系,具有寬透過波段和低聲子能量特性,可用于激光基質(zhì)材料和磁光隔離器。氟化鈰廠家、氟化鈰批發(fā)、氟化鈰氟化物 關(guān)于氟化鈰的主要介紹 英文名稱:Cerium fluoride 分子式:伊犁面議2026-03-04 -
電子級 CAN 用來制備納米 CeO? 磨料
can鈰銨在電子材料里主要干兩件事: 高純 Ce?? 前驅(qū)體:做氧化鈰基薄膜、拋光液、功能材料 選擇性氧化劑 / 蝕刻劑:用于光掩模、金屬線路、透明導(dǎo)電膜蝕刻 1. 半導(dǎo)體 & 集成電路 CMP 拋光液(化學(xué)機(jī)械拋光) 電子級 CAN 用來制備納米 CeO? 磨料,用于: 硅晶圓平坦化伊犁面議2026-03-04 -
鈰銨用于抗反射膜(AR 膜)
鈰銨(CAN)是制備氧化鈰(CeO?)抗反射膜(AR 膜)的核心高純鈰源,憑借高水溶性、易提純、成膜均勻等優(yōu)勢,廣泛用于太陽能電池、光學(xué)器件、顯示面板等領(lǐng)域,核心是通過光干涉效應(yīng)實現(xiàn)減反射與增透。水溶性極佳:易溶于水 / 醇,適配溶膠 - 凝膠、旋涂、浸涂等濕法工藝,分伊犁面議2026-03-04 -
鈰銨氧化劑can 透明導(dǎo)電膜蝕刻
鈰銨在電子材料里主要干兩件事: 高純 Ce?? 前驅(qū)體:做氧化鈰基薄膜、拋光液、功能材料 選擇性氧化劑 / 蝕刻劑:用于光掩模、金屬線路、透明導(dǎo)電膜蝕刻 1. 半導(dǎo)體 & 集成電路 CMP 拋光液(化學(xué)機(jī)械拋光) 電子級 CAN 用來制備納米 CeO? 磨料,用于: 硅晶圓平坦化 Si伊犁面議2026-03-04 -
高純度 CAN 溶液 鈰銨鉻掩模蝕刻
化學(xué)機(jī)械拋光(CMP) 納米 CeO?磨料前驅(qū)體:高純度 CAN(≥5N)經(jīng)熱解 / 水熱法制備單分散 CeO?納米磨料,用于晶圓、SiC/GaN 襯底、銅互連的全局平坦化。 性能優(yōu)勢:莫氏硬度 6.5,實現(xiàn)原子級平整度(Ra≤0.1nm);SiC 去除速率達(dá) 1500–2000 ?/min(較 SiO?提升 3 倍),缺伊犁面議2026-03-04
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