刻蝕機(jī)的原理和應(yīng)用

　　蝕刻是指曝光制版、顯影后對(duì)被蝕刻區(qū)域的保護(hù)性觸摸，蝕刻時(shí)與化學(xué)溶液的接觸，以達(dá)到溶解腐蝕、形成凹凸或鏤空成型的效果。較早可用于制作銅板、鋅板等印刷凹凸版。刻蝕機(jī)可分為化學(xué)刻蝕機(jī)和電解刻蝕機(jī)。

　　其基本原理是在真空低氣壓下，由ICP射頻電源產(chǎn)生的射頻輸出到環(huán)形耦合線圈，通過耦合輝光排出一定比例的混合刻蝕氣體，產(chǎn)生高密度等離子體。在下電極的射頻射頻作用下，這些等離子體轟擊襯底表層，使襯底圖形區(qū)域的半導(dǎo)體材料化學(xué)鍵斷裂，與刻蝕氣體生成揮發(fā)性物質(zhì)，以氣體形式離開襯底，并被抽離真空管道。

　　在化學(xué)蝕刻中，使用化學(xué)溶液通過化學(xué)反應(yīng)來達(dá)到蝕刻的目的?；瘜W(xué)刻蝕機(jī)是通過化學(xué)反應(yīng)或物理沖擊去除材料的技術(shù)。

　　電蝕刻是利用金屬在以自來水或鹽水為主要蝕刻體的液體中陽極溶解的原理，對(duì)金屬進(jìn)行蝕刻，接通蝕刻電源，從而達(dá)到蝕刻的目的。

　　優(yōu)點(diǎn):沒有污染，但只有一步蝕刻不可能沒有污染，其他工序都須沒有污染，適用于實(shí)驗(yàn)性生產(chǎn)和凹印字符的小面積蝕刻。主要用作研究實(shí)驗(yàn)機(jī)，或者簡(jiǎn)單的在金屬上蝕刻標(biāo)記，也叫電打標(biāo)。

　　缺點(diǎn):蝕刻表層不均勻，大面積腐蝕速度慢，不可用于量產(chǎn)，也不可用于刻字的大面積蝕刻，不可用于標(biāo)牌的量產(chǎn)加工。

　　刻蝕機(jī)主要應(yīng)用于航空、機(jī)械、標(biāo)牌行業(yè)，刻蝕機(jī)技術(shù)廣泛應(yīng)用于傳統(tǒng)加工方法難以加工的儀表板、銘牌、薄工件的加工。蝕刻是半導(dǎo)體和電路板制造中不可缺少的技術(shù)?，F(xiàn)已廣泛應(yīng)用于金卡標(biāo)牌加工、手機(jī)按鍵加工、不銹鋼濾網(wǎng)加工、不銹鋼電梯裝飾板加工、金屬引線框加工、金屬眼鏡腳線加工、電路板加工、裝飾金屬板加工等工業(yè)應(yīng)用。